172 Nm Excimer lampa svjetlosna cijev za industrijsku upotrebu

KARAKTERISTIKE

1. Jedna talasna dužina, koncentrirani ultraljubičasti izlaz

2. Ne-koherentno svjetlo, može pokriti veliku površinu

3. Bez korozije elektrode, dug životni vijek

4. Možete uključiti i isključiti u bilo koje vrijeme, nema potrebe za zagrijavanjem

5. Temperatura okoline ne utiče na uključenje i rad

6. Izvor hladnog svjetla, ne proizvodi infracrveni izlaz, nema očitog efekta grijanja na objektu koji se obrađuje

7. Ekološki prihvatljiv, bez žive

SPECIFIKACIJE

1. Model br.: UWB172-150W

2. Vršna talasna dužina: 172nm

3. Veličina: 55600mm

4. Ulazni napon: 220vAC

5. Snaga: 150w

6. Ugao snopa: 100 stepeni

7. Radiation Intensity: 10mw/cm²(0cm)

8. Raspon radne temperature: -10 stepeni - 150 stepeni

9. Životni vijek: 4000 sati

APLIKACIJE

Površinsko čišćenje. Može se koristiti za čišćenje wafer i ravnih displeja, uklanjanje fotorezista

Površinsko jetkanje i modifikacija, kao što su poliimid, fluorni materijali, itd.

Niskotemperaturno fotohemijsko taloženje pare (Photo-CVD). Kao što je elektronski film TA2O5, HFO2, itd.

Oksidacija, lagano žarenje. za poboljšanje kemometrije SiO₂elektronski film

Katalitička metalizacija na sobnoj temperaturi. na metalnu elektrodu u plastičnu površinu

Površinska aktivacija za povećanje površinske napetosti i vlažnosti

Organska degradacija. ukloniti organski ugljik za proizvodnju ultra čiste vode, razgraditi ostatke pesticida i fotokemijsku dekolorizaciju otpadne vode za štampanje i bojenje

Stvara se ozon visoke čistoće

Prednost ekscimernog izvora svjetlosti od 172 nm u polju modifikacije površine

Tehnologija modifikacije površine koristi se u mnogim industrijskim poljima. U poređenju sa običnim metodama, modifikacija materijala pomoću ekscimer lampi smatra se preciznom modifikacijom jer se odvija kroz hemijsku reakciju na molekularnom ili atomskom nivou.

Ovo je čista modifikacija koja ne utiče na materijal i ne stvara nikakve čestice prašine i smatra se efikasnom u poljima gde su potrebni sofisticiraniji nivoi modifikacije materijala.

Vacuum UV light, at a wavelength of 172 nm, is produced by an excimer lamp. The 172 nm radiation is significantly absorbed by oxygen so that active oxygen of high concentration can be produced. Vacuum UV light can even break organic matter's molecular bonds, which helps it to provide advantages in many processes such as enhancing the cleaning quality, expediting the cleaning speed, and boosting the product yield.

Mikrofluidni uređaji se sada koriste u mnogim različitim poljima, uključujući biološke i medicinske primjene. Upotreba tehnologije vezivanja u takvim uređajima sa finom strukturom zahteva metode lepljenja sa višim stepenom kvaliteta i preciznosti. Lepljenje koje koristi ekscimerne lampe ne zahteva nikakav adhezivni agens i ne izaziva nikakve termičke deformacije i oštećenja, što ga čini pogodnim za lepljenje mikrofluidnih uređaja.

U tehnikama koronskog pražnjenja i plazme, ciljni objekt je direktno izložen pražnjenju i može se oštetiti. Međutim, u tehnici ekscimer lampe, predmet se jednostavno ozrači vakuumom UV svjetlošću i ne doživljava nikakva oštećenja.

U tehnikama koronskog pražnjenja i plazme, čestice prašine proizvedene prskanjem elektroda mogu letjeti prema gore strujanjem zraka i zalijepiti se za površinu ciljanog objekta. Takvi problemi se rješavaju primjenom tehnike ekscimer lampe (172 nm ekscimer lampa svjetlosna cijev za industrijsku upotrebu) koja osigurava čistu obradu. Za razliku od koronskog pražnjenja i drugih plazma tehnika koje koriste pražnjenje, tehnika ekscimer lampe koja koristi svjetlost ne uzrokuje nepravilno zračenje i postiže ujednačenu i efikasnu obradu na velikoj površini.

Popularni tagovi: 172 nm ekscimer lampa svjetlosna cijev za industrijsku upotrebu, Kina, dobavljači, proizvođači, tvornica, prilagođeni, veleprodaja, rasuti, cjenik, na lageru, na prodaju